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更新時間：2008-10-22
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用于氫化物原子吸收光譜法 (HAAS)測定痕量元素 ( 砷As、硒Se、銻Sb、鉍Bi、錫Sn、鉛Pb、碲Te、鍺Ge、鎘Cd、汞Hg )
研制人：吳廷照(原北京有色金屬研究總院教授級工程師)獻(xiàn)身于原子光譜分析研究40余年的杰出貢獻(xiàn)，吳氏氣動自動化專有技術(shù)典型應(yīng)用，性能可靠，解決分析難題。
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